芯片制造
在您了解EUV光刻技术将如何彻底改变制造业之前18新利最新登入微处理器首先,你应该对当前的生产工艺略知一二。微处理器,也被称为计算机芯片,是用一种叫做光刻技术。具体地说,deep-ultraviolet光刻是用来制造现在的微芯片的,而且很可能是用来制造你的电脑。
光刻术类似于摄影术,因为它利用光将图像转移到衬底上。在a相机,底物为电影。硅是用于芯片制造的传统衬底。为了在微处理器上创建集成电路设计,光被引导到一个面具。掩模就像电路图案的模板。光线穿过面具,然后通过一系列光学透镜缩小图像。然后将这个小图像投射到硅或半导体晶片上。
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晶圆上覆盖着一种光敏的液体塑料光致抗蚀剂。掩模被放置在晶圆上,当光线穿过掩模照射到硅晶圆上时,它会使未被掩模覆盖的光刻胶变硬。没有暴露在光线下的光刻胶会保持一些粘稠,并被化学冲洗掉,只留下硬化的光刻胶和暴露的硅晶片。
制造更强大的微处理器的关键是芯片的尺寸光的波长。波长越短,硅片上可以蚀刻的晶体管就越多。更多的晶体管意味着更强大、更快的微处理器。这就是为什么英特尔奔腾4处理器,有4200万个晶体管,比奔腾3它拥有2800万个晶体管。
截至2001年,深紫外光刻技术使用的波长为240纳米。一纳米是一米的十亿分之一。随着芯片制造商将波长缩小到100纳米,他们将需要一种新的芯片制造技术。使用深紫外光刻技术带来的问题是,当光的波长变小时,光就会被用来聚焦它的玻璃透镜吸收。结果是,光没有到达硅,所以没有在晶圆上产生电路图案。
这就是EUVL将接管的地方。在EUVL中,玻璃镜片将由镜子聚焦光在下一节中,您将了解如何使用EUVL来生产比2001年制造的最强大的芯片至少强大五18新利最新登入倍的芯片。