EUVL过程
EUVL是如何18新利最新登入工作的:
根据《理发师陶德》,整个过程依赖于波长。如果你把波长短,你得到一个更好的形象。他说想的还拿着相机照片。
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“当你拍照,图片的质量取决于很多东西,”他说。”,首先它取决于你使用的光的波长,使照片。波长越短,图像就越好。这只是一个自然规律。”
截至2001年,芯片是由deep-ultraviolet光刻技术是用248纳米的光。2001年5月,一些制造商过渡到193纳米的光。EUVL,芯片将13-nanometer光。根据法律,更小的波长创造一个更好的形象,13-nanometer光会增加模式投射到硅片的质量,从而提高微处理器的速度。
整个过程发生在一个真空因为这些波长的光太短,即使空气会吸收他们。此外,EUVL使用凹凸镜涂上多层和硅钼,这种涂料可以反映近70%的EUV波长为13.4纳米的光。另外30%是吸收的镜子。没有涂料,光会在到达晶圆之前几乎完全吸收。镜子表面有近乎完美;即使是小缺陷涂料可以摧毁光学和扭曲的形状印刷电路模式,导致芯片的功能问题。
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